美國擬推新法案 擴大半導體設備輸中限制

美國為防止中國取得先進半導體製造設備，正由國會推動跨黨派的《MATCH法案》，擬進一步擴大對荷蘭半導體設備巨頭 ASML(ASML) 的出口管制。此前美國已限制極紫外光設備出口，新法案將矛頭指向深紫外光(DUV)曝光機。

此次法案的核心重點與潛在影響包括：

• 擴大管制範圍：提議全面禁止向中國銷售或維修 DUV 浸潤式曝光設備，並可能將相關中國企業納入類似實體清單的限制。
• 衝擊中國擴產：中芯國際、華為等晶片巨頭與記憶體廠目前高度依賴 DUV 設備研發 7 奈米及擴充產能，禁令若通過將對其發展構成重大阻礙。
• 潛在營收影響：DUV 銷售市場約佔 ASML 總營收近 20%，若切斷中國客戶的設備供應與售後服務，可能對公司區域市場營收結構帶來影響。

目前該法案仍在討論階段，尚未正式簽署成為法律。

ASML(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

ASML 成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體製造光刻系統市場的領導者。公司提供先進光刻設備，協助晶片製造商在同一矽面積上增加電晶體數量以突破 5 奈米等先進製程。其主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等半導體大廠，在尖端晶片製造供應鏈中扮演關鍵技術提供角色。

近期股價變化

根據最新交易數據，該公司在2026年4月13日開盤價為 1465.16，盤中最高達 1500.80，最低 1461.03。終場收在 1500.20，單日上漲 21.92，漲幅達 1.48%，單日成交量為 1,709,372 股，成交量較前一交易日變動 12.49%。

總結而言，該公司在全球先進製程光刻設備市場具備高度的產業重要性，基本面持續受惠於晶圓代工大廠的設備需求。然而，面對美國《MATCH法案》對 DUV 設備出口與維修的潛在禁令，後續需留意該法案的立法進度，以及其對公司整體營收與中國市場銷售的實質變化。

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