ASML

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全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)正式重新定調市場展望，這對供應鏈而言是一個極具份量的訊號。在剛發布的2025年度報告中，ASML一改過去保守態度，財務長Roger Dassen與執行長Christophe Fouquet罕見同步確認，"AI熱潮"已正式取代傳統的週期性循環，

【美股動態】NVIDIA財報大幅超預期，AI循環動能再加速財報大幅超預期，AI需求持續點火推升市場風險偏好輝達(NVDA)最新財報與前瞻全面超標，鞏固AI基礎設施投資的長循環敘事。公司上季營收達681.3億美元，年增73%，調整後每股盈餘1.62美元，均優於LSEG彙整的市場預估。更關鍵的是，管理層

近期基於加密貨幣的預測平台 Polymarket 成為市場焦點，吸引大量資金針對選舉、地緣政治或經濟數據進行二元對賭。雖然這種「非A即B」的短期投機充滿娛樂性，但對長期財富累積而言，風險往往大於潛在回報。與其在預測平台上碰運氣，分析師認為，專注於具有高成長潛力的人工智慧(AI)概念股是更理性的選擇。

美股財報季已進入尾聲，科技巨頭多數已公布業績，市場目前屏息以待全球市值最高的公司發布最新數據。輝達(NVDA)作為人工智慧熱潮的核心引擎，將於週三盤後公布財報。這份報告不僅牽動美股，包括ASML(ASML)在內的歐洲科技大廠也將密切關注，視其為全球AI投資週期的重要風向球。VanEck產品經理Cam

全球微影設備霸主 ASML 近日拋出技術震撼彈，宣示已掌握將 EUV 光源功率從 600 瓦提升至 1000 瓦的關鍵技術，目標在 2030 年前讓晶片產量激增五成。這項突破意味著每小時晶圓處理量將從 220 片跳升至 330 片，這對擁有全球最大 EUV 機台規模的台積電(2330)而言，無疑是產

根據 Reuters 報導，半導體設備大廠 ASML(ASML) 近日展示了極紫外光（EUV）微影設備在光源技術上的重大進展。這項技術升級有望在 2030 年前，將晶片製造的產量大幅提升 50%，為全球半導體產能帶來顯著的增長動能。拒絕紙上談兵！實測功率達1000瓦展現量產實力ASML(ASML)

ASML推出全新極紫外光刻機光源技術，預計至2030年可提升晶片生產效率50%，引發業界關注。 .badgeprice-container {
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半導體先進製程的「軍備競賽」進入新回合，全球微影設備霸主艾司摩爾(ASML)近日釋出重磅技術訊號，意圖透過大幅提升生產效率，築高對抗美、中競爭對手的護城河。ASML 研究團隊已掌握關鍵技術，計畫將極紫外光（EUV）微影設備的光源功率，從現行的 600 瓦特一舉推升至 1,000 瓦特。這項突破不僅是

全球半導體設備龍頭ASML(ASML)的研究人員宣佈在極紫外光（EUV）技術上取得重大突破，透過提升關鍵設備的光源功率，預計在2030年前能將晶片產量提高50%。ASML(ASML)作為全球唯一能生產商用EUV曝光機的製造商，此技術進展對於台積電(TSM)、Intel(INTC)等主要客戶至關重要，