次世代EUV機台商用進展與AI產能觀點

艾司摩爾(ASML)執行長福克近日在比利時微電子研究中心主辦的會議上表示，預期在未來幾個月內，市場就能看見首批採用新一代高數值孔徑極紫外光設備所製造的晶片問世。針對客戶先前提出每台要價最高可達4億美元的成本考量，福克說明，新一代設備從設計之初就著眼於降低最先進晶片的圖案化成本，並透過提升解析度，將最小特徵尺寸縮小約66%，是支援2奈米以下製程的關鍵技術。

針對半導體市場展望與產能議題，福克提出了以下重點：

• 預期人工智慧熱潮將推動未來數年全球晶片銷售額每年成長約20%。
• 針對外界擔憂ASML產能可能成為擴產瓶頸，公司已在積極關注與應對。
• 點名台積電(TSM)與三星必須持續擴大產能並採購設備，以滿足龐大的AI晶片需求。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

該公司成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體製造光刻系統的市場領導者。其光刻技術歷來佔尖端晶片製造成本的重要部分，下一代EUV光刻工具更是晶片製造商跨越5奈米製程節點的必要設備，主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等大型半導體廠。

近期股價變化

根據2026年5月20日的交易數據，該股開盤價為1502.3800，盤中最高來到1555.8000，最低為1492.3171，終場收在1550.1300。單日上漲90.6900，漲幅達6.21%，當日成交量為1705490，較前一交易日的成交量變動增加22.22%。

總結來看，ASML在次世代光刻技術的推進上已有明確的商用時間表，且AI需求持續提供產業成長動能。投資人後續可留意晶圓代工大廠對新一代設備的實際導入進度，以及高昂設備成本對供應鏈資本支出的長期影響。

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