美擬推新法案擴大出口管制

近期美國國會正準備推動跨黨派的《MATCH法案》，旨在進一步收緊對中國的半導體設備出口管制。此法案不僅延續先前對極紫外光(EUV)設備的限制，更計畫全面禁止ASML向中國出口及維修深紫外光(DUV)設備，以維持美國與盟友的技術領先地位。

法案相關重點與市場潛在影響如下：

• 擴大設備禁令：提議禁止銷售與維修DUV浸潤式曝光技術設備，並建議將相關中國企業納入類似實體清單的限制。
• 中國供應鏈受阻：華為、中芯國際與長江存儲等中國晶片廠目前高度依賴DUV設備以維持產能與推進製程，禁令若實施將帶來重大打擊。
• 企業營運風險：由於DUV設備銷售市場占該公司總營收近20%，後續出口限制恐對整體營運動能帶來不確定性。

目前該法案仍處於討論階段尚未正式立法，但已成為市場關注焦點。

ASML Holding N.V.(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

該公司成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體光刻系統市場份額的領導者。其提供晶片製造所需的關鍵曝光設備，主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等大廠。隨著先進製程持續推進，晶片製造商高度仰賴其下一代EUV光刻工具，以繼續突破5奈米工藝節點。

近期股價變化

根據最新交易數據，該檔個股在2026年4月13日的股價表現呈現上揚。當日開盤價為1465.16，盤中最高達1500.80，最低至1461.03，終場收盤於1500.20，上漲21.92，漲幅為1.48%。單日成交量達1,709,372，較前一交易日增加12.49%。

綜合觀察，(ASML)在半導體製造設備領域具備不可替代的地位，支撐其基本面表現。然而，美國《MATCH法案》的立法進度與潛在的設備出口禁令，將是影響其中國市場銷售額的關鍵變數。投資人後續應持續追蹤法案進展與相關財報數據，以客觀評估潛在的政策風險。

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