美擬推MATCH法案限制設備輸中

美國國會正推動跨黨派的《MATCH法案》，擬進一步限制荷蘭半導體設備巨頭 ASML 向中國出口深紫外光(DUV)曝光機。此舉旨在防堵中國半導體產業取得關鍵製造設備，延續先前對極紫外光(EUV)設備的出口管制。本次法案的關鍵影響涵蓋以下重點：

• 提議全面禁止銷售或維修DUV浸潤式曝光設備。
• 限制對象包含中芯國際、華為、華虹等依賴此曝光機的中國指標性晶片廠與記憶體製造商。
• 針對公司營運層面，由於DUV設備銷售佔據整體總營收近百分之二十，若法案正式通過，可能影響其在中國市場的銷售動能。

目前法案仍在討論階段尚未正式立法，但已顯示美國正鎖定半導體供應鏈關鍵瓶頸的政策方向。

ASML(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

該公司成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體製造光刻系統的領導廠商。其核心技術是製造先進製程晶片的關鍵，特別是下一代EUV光刻工具，為突破5奈米以下製程節點不可或缺的設備，主要客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等半導體大廠。

近期股價變化

根據2026年4月10日的交易數據，該股呈現上漲趨勢，當日開盤價為1,482.35，盤中最高觸及1,502.50，最低為1,473.715，最終收在1,478.28。單日上漲29.64，漲幅達2.05%，成交量則為1,519,599，較前一交易日減少3.80%。

總結來看，ASML 在先進製程設備領域維持強大優勢，但仍面臨地緣政治變數的考驗。後續投資人可密切關注法案的立法進度，以及潛在的出口禁令對其全球營收佔比與產能配置所帶來的實質影響。

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